कण क्षेपण

कण क्षेपण (Sputtering/स्पटरिंग) वह प्रक्रिया है जिसमें एक ठोस लक्ष्य (टार्गेट) पर ऊर्जावान कणों की बमबारी करके उससे दूसरे कण निकालते हैं। R. Behrisch Sputtering by Particle bombardment https://archive.org/details/sputteringbypart0000rbeh Springer, Berlin 1981 978-3-540-10521-3 यह तभी सम्भव है जब बमबारी करने वाले कणों की गतिज ऊर्जा, ऊष्मीय ऊर्जा की अपेक्षा बहुत अधिक हो (≫ 1 eV)। इस प्रक्रम का उपयोग कई कार्यों के लिये किया जाता है, जैसे- तनुफिल्म निक्षेपण (thin-film deposition), निक्षारण (etching/इचिंग) तथा वैश्लेषिक तकनीकों में। श्रेणी:पदार्थ विज्ञान